EUV; mask repair; defect repair; clear defect; focused ion beam; multi layer etching; SFET;
机译:基于相干衍射成像方法聚焦EUV聚焦的EUV显微镜的EUV掩模缺陷评估
机译:通过EUV图案晶圆的全芯片光学检测来检测可印刷的EUV掩模吸收层缺陷和缺陷添加物
机译:使用EUV光发射电子显微镜检查EUVL掩模的空白缺陷和图案化掩模
机译:使用FIB方法研究EUV掩模缺陷修复
机译:具有掩埋缺陷的EUV光刻掩模的仿真和补偿方法。
机译:安布喉罩呼吸道充气线的非常规修复方法
机译:EUV掩模模式缺陷作为HP节点的函数的可印刷性研究