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董磊; 戴翼戈;
中国电子科技集团公司第四十七研究所;
沈阳;
110032;
缺陷修复系统; 自动喷涂技术; 掩模版; 透明缺陷修复;
机译:通过聚焦离子束修复多层涂层极紫外光刻掩模版中的振幅缺陷
机译:通过选择性激光烧结微粒墨水的可掩抗导体的无掩抗图案化及其在柔性瞬态电子产品中的应用
机译:相移光掩模修复和修复验证程序,用于透明和不透明缺陷与45 nm节点及更远的缺陷
机译:用于自然缺陷分析的极紫外光刻掩模版的局部掩模图案
机译:基于LIS的验证系统的开发与实现以自动报告实验室测试结果自动报告零缺陷
机译:EUV和非EUV检查掩模版缺陷修复网站
机译:修复反射掩模上的不透明缺陷,用于软X射线投影光刻。
机译:减少掩模版上的多层缺陷
机译:修复半导体掩模版上不透明缺陷的方法
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