首页> 外文会议>2010 IEEE 2nd Russia School and Seminar on Fundamental Problems of Micro/Nanosystems Technologies >Influence of substrate and doping profile parameters on characteristics of ion-implanted GaAs Schottky-barrier field-effect transistor (MESFET)
【24h】

Influence of substrate and doping profile parameters on characteristics of ion-implanted GaAs Schottky-barrier field-effect transistor (MESFET)

机译:衬底和掺杂轮廓参数对离子注入GaAs肖特基势垒场效应晶体管(MESFET)特性的影响

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摘要

Ion-implanted GaAs MESFET was modeled and dependences of MESFET characteristics on doping profile parameters were found. These dependences allow to optimize transistor for different applications (power, high frequency or low-noise transistors).
机译:对离子注入GaAs MESFET进行了建模,发现了MESFET特性对掺杂轮廓参数的依赖性。这些依赖性允许针对不同的应用(功率,高频或低噪声晶体管)优化晶体管。

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