double- exposure; immersion; 32nm node; NA1.3; ArF excimer laser; injection lock; high power;
机译:ArF浸入式双图案光源
机译:面向32 nm节点ArF浸没光刻的双图案化材料和工艺的开发
机译:间距为90 nm的25 nm接触孔的图案化:线/空间双曝光浸没光刻技术和等离子辅助收缩技术的结合
机译:高功劳注射锁激光光源的可靠性报告双曝光和双图案化ARF浸入光刻
机译:高功率单频976nm光纤激光源及其频率加倍为蓝色激光生成
机译:图案化双层ITO改善了激光发光二极管的紫外发光二极管的光输出
机译:用于双图案化朝向32nm节点ARF浸入光刻的材料和工艺的开发
机译:由倍频光纤激光器产生的780nm高功率连续激光源