double patterning and exposure; lithography simulation; wafer topography; BARC; hardmask;
机译:准傅里叶全息图和斑点干涉图的两次曝光记录下干涉图样的形成
机译:在黑暗和触变条件下,保持暴露于泉水,而不是双蒸馏水以弱(〜1μT)临时形成的磁场位移光子光谱波长:不同屏蔽材料的影响
机译:暴露于手机电磁场和主观症状:一项双盲研究。
机译:双梁干扰露出的严格电磁场模拟,用于探索双图案化和双曝光场景
机译:墨西哥恰帕斯州玉米田的两次接触,剥夺和农民抵抗
机译:短期暴露于手机基站信号会增加报告电磁场敏感性的个体的症状吗?双盲随机挑衅研究
机译:报告对电磁场敏感的个人是否会短期暴露于移动电话基站信号中而增加症状?一项双盲随机挑衅研究。