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图案曝光装置、曝光头以及图案曝光方法

摘要

本发明提供一种适合地进行图案光的对焦的技术。图案曝光装置(10)包括:曝光头(82),其用于向基板W的感光材料面输出图案光;测量器(84),其用于测量基板W的位置;以及聚焦控制部(902),其根据基板W的感光材料面的位置,对图案光的成像位置进行调节。曝光头(82)具有透镜移动部(828),其用于使第一成像光学系统(822)的第二透镜(12L)和微透镜阵列(824)在接近或远离第一透镜(10L)的方向上进行移动。

著录项

  • 公开/公告号CN107807495B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-04-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社斯库林集团;

    申请/专利号CN201710795277.1

  • 发明设计人 水野博文;茂野幸英;植村春生;

    申请日2017-09-06

  • 分类号

  • 代理机构隆天知识产权代理有限公司;

  • 代理人向勇

  • 地址 日本京都府京都市

  • 入库时间 2022-08-23 10:55:45

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-04-17

    授权

    授权

  • 2018-04-10

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20170906

    实质审查的生效

  • 2018-04-10

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20170906

    实质审查的生效

  • 2018-03-16

    公开

    公开

  • 2018-03-16

    公开

    公开

  • 2018-03-16

    公开

    公开

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