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Pattern Size Trimming by UV Exposure for Resist Patterns Fabricated by Thermal Nanoimprint Lithography

机译：通过紫外线印刷光刻制造的抗蚀剂图案的紫外线曝光图案尺寸修剪

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作者
Hayato Noma; Hiroaki Kawata; Masaaki Yasuda; Yoshiaki Hirai;
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年度 2013
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