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机译:二氧化硅,钨和浅沟隔离化学机械平面化工艺与垫微纹理,调节圆盘型和年龄,摩擦学,流体动力学和动力学相关的新型研究
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机译:氧化物对离子注入硅中沟槽边缘缺陷形成的影响