EUV mask; pattern shift; flatness; period; OPD; lithography;
机译:用于EUV光刻的线条图案的衰减型相移掩模
机译:通过EUV图案晶圆的全芯片光学检测来检测可印刷的EUV掩模吸收层缺陷和缺陷添加物
机译:使用EUV光发射电子显微镜检查EUVL掩模的空白缺陷和图案化掩模
机译:估计允许模式换档的EUV掩模平台
机译:EUV掩模技术的主要挑战:光化掩模检测和掩模3D效果。
机译:通过非化学放大光刻胶的EUV定向极性切换对复杂纳米特征的高度有序阵列进行构图
机译:EUV-CDa:EUV掩模布局的模式转换感知临界密度分析