scatterometry; SCD; focus exposure matrix; FEM; spectroscopic ellipsometry; spectroscopic critical dimension; focus exposure monitoring;
机译:使用先进的光源计量技术来改善光刻工艺控制
机译:用于过程表征和控制的光谱光学计量
机译:使用SiON BARL处理进行0.25μm以下光刻的CD控制
机译:集成的ADI光学计量解决方案,用于CD和OV的光刻工艺控制
机译:一种用于光刻过程监视和控制的光学计量系统。
机译:电流密度在线计量的不锈钢喷射电化学加工过程控制
机译:光刻中的热处理:设备设计,控制和计量