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Metrology, inspection, and process control for microlithography XXVIII
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1.
Determination of line edge roughness in low dose top-down scanning electron microscopy images
机译:
低剂量自顶向下扫描电子显微镜图像中线边缘粗糙度的测定
作者:
T. Verduin
;
P. Kruit
;
C.W. Hagen
会议名称:
《Metrology, inspection, and process control for microlithography XXVIII》
|
2014年
关键词:
CD-SEM metrology;
line edge roughness;
power spectral density;
2.
Leveraging Data Analytics, Patterning Simulations and Metrology Models to Enhance CD Metrology Accuracy for Advanced IC Nodes
机译:
利用数据分析,图案化仿真和计量模型来增强高级IC节点的CD计量精度
作者:
Narender Rana
;
Yunlin Zhang
;
Taher Kagalwala
;
Lin Hu
;
Todd Bailey
会议名称:
《Metrology, inspection, and process control for microlithography XXVIII》
|
2014年
关键词:
Predictive Data Analytics;
Machine Learning;
Artificial Neural Networks;
Artificial Intelligence;
Hybrid Metrology;
Bayesian Statistics;
Patterning Simulation Models;
Reference Metrology;
CD-AFM;
CD-SEM;
SEM Resist Shrinkage;
Scatterometry;
OCD;
MBIR;
Measurement Uncertainty;
TMU;
Critical Dimensional (CD) Metrology;
EUV resist;
DSA;
3.
CDSEM AFM Hybrid metrology for the characterization of Gate-All-Around Silicon Nano Wires
机译:
CDSEM AFM混合计量学,用于表征全能栅极硅纳米线
作者:
Shimon Levi
;
Ishai Schwarzband
;
Yakov Weinberg
;
Roger Cornell
;
Ofer Adan
;
Guy M. Cohen
;
Lynne Gignac
;
Sarunya Bangsaruntip
;
Sean Hand
;
Jason Osborne
;
Adam Feinstein
会议名称:
《Metrology, inspection, and process control for microlithography XXVIII》
|
2014年
4.
10 nm Three-Dimensional CD-SEM Metrology
机译:
10 nm三维CD-SEM计量
作者:
Andras E. Vladar
;
John S. Villarrubia
;
Jasmeet Chawla
;
Bin Ming
;
Joseph R. Kline
;
Scott List
;
Michael T. Postek
会议名称:
《Metrology, inspection, and process control for microlithography XXVIII》
|
2014年
关键词:
nanometer-scale;
modeling;
simulation;
measurement;
three dimensional;
3D;
critical dimension;
scanning;
transmission;
electron microscope;
SEM;
TEM;
small angle x-ray scattering;
CD-SAXS;
matching;
combined metrology;
5.
OPTICAL TECHNOLOGIES FOR TSV INSPECTION
机译:
TSV检查的光学技术
作者:
Arun A. Aiyer
;
Nikolai Maltsev
;
Jae Ryu
会议名称:
《Metrology, inspection, and process control for microlithography XXVIII》
|
2014年
关键词:
Virtual Interface Technology;
TSV;
Bottom CD;
Profile;
μRaman;
Keep-out-zone;
6.
Novel three dimensional (3D) CD-SEM profile measurements
机译:
新颖的三维(3D)CD-SEM轮廓测量
作者:
Wataru Ito
;
Benjamin Bunday
;
Sumito Harada
;
Aaron Cordes
;
Tsutomu Murakawa
;
Abraham Arceo
;
Makoto Yoshikawa
;
Toshihiko Hara
;
Takehito Arai
;
Soichi Shida
;
Masayuki Yamagata
;
Jun Matsumoto
;
Takayuki Nakamura
会议名称:
《Metrology, inspection, and process control for microlithography XXVIII》
|
2014年
关键词:
Profile;
CD-SEM;
Wafer MVM-SEM;
AFM;
1X node;
3D measurement;
SWA;
height;
FinFET;
7.
Influence of Metrology Error in Measurement of Line Edge Roughness Power Spectral Density
机译:
计量误差对测量线边缘粗糙度功率谱密度的影响
作者:
Benjamin D. Bunday
;
Chris A. Mack
会议名称:
《Metrology, inspection, and process control for microlithography XXVIII》
|
2014年
关键词:
power spectral density;
PSD;
line-edge roughness;
linewidth roughness;
LER;
LWR;
JMONSEL;
CD-SEM;
8.
Correction of EB-induced Shrinkage in Contour Measurements
机译:
校正轮廓测量中EB引起的收缩
作者:
Takeyoshi Ohashi
;
Shoji Hotta
;
Atsuko Yamaguchi
;
Junichi Tanaka
;
Hiroki Kawada
会议名称:
《Metrology, inspection, and process control for microlithography XXVIII》
|
2014年
关键词:
shrinkage correction;
CD-SEM;
resist measurement;
shrinkage;
contour measurement;
9.
Novel metrology methods for fast 3D characterization of Directed Self-Assembly (DSA) patterns for high volume manufacturing
机译:
用于大规模生产的定向自组装(DSA)模式的快速3D表征的新型计量方法
作者:
Chandra Sarma
;
Benjamin Bunday
;
Aron Cepler
;
Ted Dziura
;
JiHoon Kim
;
Guanyang Lin
;
Jian Yin
会议名称:
《Metrology, inspection, and process control for microlithography XXVIII》
|
2014年
关键词:
Directed Self-Assembly;
DSA;
Metrology;
3-dimensional Metrology;
EUV;
High Volume Manufacturing;
Lithographic Profile;
Scatterometry;
10.
Lithography Run-to-Run control in High Mix manufacturing environment with a Dynamic State Estimation approach
机译:
使用动态状态估计方法在高混合制造环境中进行光刻运行控制
作者:
Mark E. Yelverton
;
Gaurav K. Agrawal
会议名称:
《Metrology, inspection, and process control for microlithography XXVIII》
|
2014年
关键词:
Lithography;
Run-to-Run control;
dynamic thread adjustment;
high mix manufacturing;
11.
Improving on-product performance at litho using integrated diffraction-based metrology and computationally designed device-like targets fit for advanced technologies (incl. FinFET)
机译:
使用集成的基于衍射的计量技术和适合先进技术(包括FinFET)的计算机设计目标,可改善光刻技术的产品性能
作者:
Kai-Hsiung Chen
;
GT Huang
;
KS Chen
;
C.W. Hsieh
;
YC Chen
;
CM Ke
;
TS Gau
;
YC Ku
;
Kaustuve Bhattacharyya
;
Jacky Huang
;
Arie den Boef
;
Maurits v.d. Schaar
;
Martijn Maassen
;
Reinder Plug
;
Youping Zhang
;
Steffen Meyer
;
Martijn van Veen
;
Chris de Ruiter
;
Jon Wu
;
Hua Xu
;
Tatung Chow
会议名称:
《Metrology, inspection, and process control for microlithography XXVIII》
|
2014年
关键词:
Overlay;
focus;
in-die;
integrated;
in-line;
on-product;
diffraction;
scatterometer;
TMU;
matching;
metrology;
process robustness;
matching to device;
target design;
productivity;
track;
MA time;
High-volume manufacturing;
HVM;
12.
Improving SEM Image Quality Using Pixel-Super Resolution Technique
机译:
使用像素超分辨率技术提高SEM图像质量
作者:
Myungjun Lee
;
Jason Cantone
;
Ji Xu
;
Lei Sun
;
Ryoung-han Kim
会议名称:
《Metrology, inspection, and process control for microlithography XXVIII》
|
2014年
关键词:
CD-SEM;
Metrology;
Inspection;
Interpolation;
Super resolution;
Shift estimation;
Drift distortion;
13.
Parallel SPM cantilever arrays for large area surface metrology and lithography
机译:
并行SPM悬臂阵列用于大面积表面计量和光刻
作者:
Teodor Gotszalk
;
Tzvetan Ivanov
;
Ivo W. Rangelow
会议名称:
《Metrology, inspection, and process control for microlithography XXVIII》
|
2014年
关键词:
Scanning probe microscopy;
piezoresistive cantilevers;
piezoresistive thermally actuated cantilevers;
14.
Nanometrology on Gratings with GISAXS: FEM Reconstruction and Fourier Analysis
机译:
GISAXS在光栅上的纳米计量学:有限元重构和傅立叶分析
作者:
Victor Soltwisch
;
Jan Wernecke
;
Anton Haase
;
Juergen Probst
;
Max Schoengen
;
Michael Krumrey
;
Frank Scholze
会议名称:
《》
|
2014年
关键词:
optical metrology;
computational lithography;
finite element method;
grazing incidence scatterometry;
electron beam lithography;
Fourier transformation;
15.
Investigation on reticle heating effect induced overlay error
机译:
掩模版加热效应引起的覆盖误差研究
作者:
Mijung Lim
;
Geunhak Kim
;
SeoMin Kim
;
Byounghoon Lee
;
Seokkyun Kim
;
Chang-moon Lim
;
Myoungsoo Kim
;
Sungki Park
会议名称:
《Metrology, inspection, and process control for microlithography XXVIII》
|
2014年
关键词:
overlay;
reticle heating;
transmittance;
pattern density;
exposure dose;
16.
Optical volumetric inspection of sub-20 nm patterned defects with wafer noise
机译:
带有晶圆噪声的20 nm以下图案化缺陷的光学体积检查
作者:
Bryan M. Barnes
;
Francois Goasmat
;
Martin Y. Sohn
;
Hui Zhou
;
Andras E. Vladar
;
Richard M. Silver
;
Abraham Arceo
会议名称:
《Metrology, inspection, and process control for microlithography XXVIII》
|
2014年
关键词:
wafer noise;
defect inspection;
volumetric processing;
defect metrology;
three-dimensional image processing;
17.
Highly effective and accurate weak point monitoring method for advanced design rule (1x nm) devices
机译:
用于高级设计规则(1x nm)器件的高效,准确的薄弱点监控方法
作者:
Jeongho Ahn
;
ShiJin Seong
;
Minjung Yoon
;
Il-Suk Park
;
HyungSeop Kim
;
Dongchul Ihm
;
Soobok Chin
;
Gangadharan Sivaraman
;
Mingwei Li
;
Raghav Babulnath
;
Chang Ho Lee
;
Satya Kurada
;
Christine Brown
;
Rajiv Galani
;
JaeHyun Kim
会议名称:
《Metrology, inspection, and process control for microlithography XXVIII》
|
2014年
关键词:
BEOL;
Mx ADI;
Mx Etch;
Mx CMP;
Weak points;
Hotspots;
Broadband Optical Wafer Defect Inspector;
18.
New Inspection Technology for Observing Nanometer Size Defects using Expansion Soft Template
机译:
使用扩展软模板观察纳米尺寸缺陷的新检查技术
作者:
Seiji Morita
;
Ryoji Yoshikawa
;
Takashi Hirano
;
Tatsuhiko Higashiki
会议名称:
《Metrology, inspection, and process control for microlithography XXVIII》
|
2014年
关键词:
Lithography;
Expansion;
Polymer template;
UV resin;
Organic material;
Replication;
19.
Quantitative tabletop coherent diffraction imaging microscope for EUV lithography mask inspection
机译:
用于EUV光刻掩模检查的定量台式相干衍射成像显微镜
作者:
Bosheng Zhang
;
Daniel E. Adams
;
Matthew D. Seaberg
;
Dennis F. Gardner
;
Elisabeth R. Shanblatt
;
Henry Kapteyn
;
Margaret Murnane
会议名称:
《Metrology, inspection, and process control for microlithography XXVIII》
|
2014年
关键词:
X-ray microscopy;
phase retrieval;
high harmonic generation;
mask inspection;
coherent diffractive imaging;
20.
Weak measurements applied to process monitoring using focused beam scatterometry
机译:
使用聚焦束散射法将微弱测量应用于过程监控
作者:
Thomas G. Brown
;
Miguel A. Alonso
;
Anthony Vella
;
Michael J. Theisen
;
Stephen T. Head
会议名称:
《Metrology, inspection, and process control for microlithography XXVIII》
|
2014年
关键词:
Spatial Light Modulators;
Polarization Control;
Microscopy;
Pupil Engineering;
21.
High speed optical metrology solution for after etch process monitoring and control
机译:
用于蚀刻后过程监控的高速光学计量解决方案
作者:
Anne-Laure Charley
;
Philippe Leray
;
Wouter Pypen
;
Shaunee Cheng
;
Alok Verma
;
Christine Mattheus
;
Baukje Wisse
;
Hugo Cramer
;
Henk Niesing
;
Stefan Kruijswijk
会议名称:
《Metrology, inspection, and process control for microlithography XXVIII》
|
2014年
关键词:
CD;
scatterometry;
OCD;
Optical CD metrology;
SADP;
pitch walking;
process control;
22.
Integrated ADI optical metrology solution for lithography process control of CD and OV
机译:
集成的ADI光学计量解决方案,用于CD和OV的光刻工艺控制
作者:
Marlene Strobl
;
Wilhelm Tsai
;
Andy Lan
;
Tom Chen
;
Wilson Hsu
;
Henry Chen
;
Frida Liang
;
Alan Wang
;
Platt Hung
;
David Huang
;
Ethan Chiu
;
Paul Yu
;
Yi Song
;
Sylvia Yuan
;
Remco Dirks
;
Noelle Wright
;
Mariya Ponomarenko
;
Hugo Cramer
;
Baukje Wisse
;
Vincent Couraudon
;
Bijoy Rajasekha
会议名称:
《Metrology, inspection, and process control for microlithography XXVIII》
|
2014年
关键词:
metrology;
integrated metrology;
scatterometry;
OCD;
overlay;
DBO;
monitoring;
control;
lithography;
23.
Verification metrology system by using inline reference metrology
机译:
使用在线参考计量的验证计量系统
作者:
Hideaki Abe
;
Yasuhiko Ishibashi
;
Chihiro Ida
;
Akira Hamaguchi
;
Takahiro Ikeda
;
Yuichiro Yamazaki
会议名称:
《Metrology, inspection, and process control for microlithography XXVIII》
|
2014年
关键词:
Reference metrology;
Measurement uncertainty;
Process variation;
Measurement robustness;
GI-SAXS;
24.
Impact of shrinking measurement error budgets on qualification metrology sampling and cost
机译:
缩小的测量误差预算对合格计量学抽样和成本的影响
作者:
Matthew Sendelbach
;
Niv Sarig
;
Koichi Wakamoto
;
Hyang Kyun (Helen) Kim
;
Paul Isbester
;
Masafumi Asano
;
Kazuto Matsuki
;
Alok Vaid
;
Carmen Osorio
;
Chas Archie
会议名称:
《Metrology, inspection, and process control for microlithography XXVIII》
|
2014年
关键词:
TMU;
TMU analysis;
inverse TMU analysis;
reference metrology;
sampling;
measurement error;
cost;
TEM;
25.
Optimizing Hybrid Metrology through a Consistent Multi-Tool Parameter Set and Uncertainty Model
机译:
通过一致的多工具参数集和不确定性模型优化混合计量
作者:
R. M. Silver
;
B.M. Barnes
;
N.F. Zhang
;
H. Zhou
;
A. Vladar
;
J. Villarrubia
;
J. Kline
;
D. Sunday
;
A. Vaid
会议名称:
《Metrology, inspection, and process control for microlithography XXVIII》
|
2014年
关键词:
optical metrology;
electromagnetic simulation;
evaluate sensitivities and uncertainties;
phase sensitive measurements;
through-focus three-dimensional field;
26.
New Techniques in Large Scale Metrology Toolset Data Mining to Accelerate Integrated Chip Technology Development and Increase Manufacturing Efficiencies
机译:
大规模计量工具集数据挖掘的新技术可加速集成芯片技术的开发并提高制造效率
作者:
Eric Solecky
;
Narender Rana
;
Allan Minns
;
Carol Gustafson
;
Patrick Lindo
;
Roger Cornell
;
Paul Llanos
会议名称:
《Metrology, inspection, and process control for microlithography XXVIII》
|
2014年
关键词:
Metrology;
CD SEM;
Data Mining;
Big Data;
Cp;
Cpk;
27.
Hybrid metrology universal engine: co-optimization
机译:
混合计量通用引擎:共同优化
作者:
Alok Vaid
;
Carmen Osorio
;
Jamie Tsai
;
Cornel Bozdog
;
Matthew Sendelbach
;
Eyal Grubner
;
Roy Koret
;
Shay Wolfling
会议名称:
《Metrology, inspection, and process control for microlithography XXVIII》
|
2014年
关键词:
OCD;
CD-SEM;
critical dimension;
hybrid metrology;
FinFET;
1X node;
high-k;
IL;
28.
Addressing FinFET metrology challenges in 1X node using tilt-beam CD-SEM
机译:
使用倾斜光束CD-SEM解决1X节点中的FinFET计量挑战
作者:
Xiaoxiao Zhang
;
Hua Zhou
;
Zhenhua Ge
;
Alok Vaid
;
Deepasree Konduparthi
;
Carmen Osorio
;
Stefano Ventola
;
Roi Meir
;
Ori Shoval
;
Roman Kris
;
Ofer Adan
;
Maayan Bar-Zvi
会议名称:
《Metrology, inspection, and process control for microlithography XXVIII》
|
2014年
关键词:
CD-SEM;
tilt-beam;
3D metrology;
FinFET;
1X node;
gate height;
fin height;
3D metal gate;
29.
Metrology of White Light Interferometer for TSV Processing
机译:
用于TSV处理的白光干涉仪的计量
作者:
Padraig Timoney
;
Yeong-Uk Ko
;
Daniel Fisher
;
Cheng Kuan Lu
;
Yudesh Ramnath
;
Alok Vaid
;
Sarasvathi Thangaraju
;
Daniel Smith
;
Himani Kamineni
;
Dingyou Zhang
;
Wonwoo Kim
;
Ramakanth Alapati
;
Jonathan Peak
;
Hemant Amin
;
Holly Edmundson
;
Joe Race
;
Brennan Peterson
;
Tim Johnson
会议名称:
《Metrology, inspection, and process control for microlithography XXVIII》
|
2014年
关键词:
3D Integration;
TSV;
White Light Interferometer;
depth;
TCD;
BCD;
Bump Height;
Dishing;
30.
New Integrated Monte Carlo Code for the Simulation of High-Resolution Scanning Electron Microscopy Images for Metrology in Microlithography
机译:
用于模拟微光刻中高分辨率扫描电子显微镜图像的新集成蒙特卡洛代码
作者:
Emre Ilguesatiroglu
;
Alexey Yu. Illarionov
;
Mauro Ciappa
;
Paul Pfaeffli
;
Lars Bomholt
会议名称:
《Metrology, inspection, and process control for microlithography XXVIII》
|
2014年
关键词:
CD extraction;
CD-SEM;
Monte Carlo simulation;
dose calculation;
self charging;
31.
Dependence of Secondary-electron Yield on Aspect Ratio of Several Trench Patterns
机译:
二次电子产率对几种沟槽图案长宽比的依赖性
作者:
Daisuke Bizen
;
Yasunari Sohda
;
Hideyuki Kazumi
会议名称:
《Metrology, inspection, and process control for microlithography XXVIII》
|
2014年
关键词:
CD-SEM;
Monte-Carlo simulation;
secondary electron emission;
high aspect ratio structure;
32.
Cross-sectional profile prediction from top-view SEM images based on root-cause decomposition of line edge roughness
机译:
基于线边缘粗糙度根源分解的顶视图SEM图像截面剖面预测
作者:
Hiroshi Fukuda
会议名称:
《Metrology, inspection, and process control for microlithography XXVIII》
|
2014年
关键词:
scanning electron microscope (SEM);
line edge roughness (LER);
surface roughness;
topography;
33.
Metrology for Directed Self-Assembly Block Lithography using Optical Scatterometry
机译:
使用光散射法进行定向自组装块光刻的计量
作者:
Dhairya Dixit
;
Vimal Kamineni
;
Richard Farrell
;
Erik Hosier
;
Moshe Preil
;
Joseph Race
;
Brennan Peterson
;
Alain C. Diebold
会议名称:
《》
|
2014年
关键词:
Directed Self-Assembly;
Scatterometry;
OCD;
Mueller matrix;
Ellipsometry;
Block copolymer;
34.
Estimating pattern sensitivity to the printing process for varying dose/focus conditions for RET development in the sub-22nm era
机译:
估算22nm以下RET的不同剂量/聚焦条件下对印刷工艺的图案敏感性
作者:
Benoit Seguin
;
Henri Saab
;
Maria Gabrani
;
Virginia Estellers
会议名称:
《Metrology, inspection, and process control for microlithography XXVIII》
|
2014年
关键词:
process variability;
pattern sensitivity;
SEM images;
contours-based shape analysis;
CD variation;
resolution enhancement techniques (RET);
35.
Improvement of Inter-field CDU by Using On-Product Focus Control
机译:
通过使用产品上的焦点控制来改善场间CDU
作者:
Kyeong Dong Park
;
Tony Park
;
Jong Hyun Hwang
;
Jin Phil Choi
;
Young Seog Kang
会议名称:
《Metrology, inspection, and process control for microlithography XXVIII》
|
2014年
关键词:
Diffraction based focus;
DBF;
CDU;
asymmetric target;
focus uniformity;
focus control;
on-product metrology;
scatterometry;
holistic lithography;
36.
CD-SEM Metrology for sub-10 nm Width Features
机译:
小于10 nm宽度特征的CD-SEM计量
作者:
Benjamin Bunday
;
Aron Cepler
;
Aaron Cordes
;
Abraham Arceo
会议名称:
《Metrology, inspection, and process control for microlithography XXVIII》
|
2014年
关键词:
critical dimension;
metrology;
CD-SEM;
gaps analysis;
resolution;
JMONSEL;
model-based;
sub-10 nm;
37.
Contour-Based Metrology for Complex 2D Shaped Patterns Printed by Multiple-Patterning Process
机译:
基于轮廓的计量学,用于复杂的二维图形的多图案印刷
作者:
Daisuke Fuchimoto
;
Toru Ishimoto
;
Hiroyuki Shindo
;
Hitoshi Sugahara
;
Yasutaka Toyoda
;
Julien Mailfert
;
Peter De Bisschop
会议名称:
《Metrology, inspection, and process control for microlithography XXVIII》
|
2014年
关键词:
EPE;
Pattern Placement Error;
Pattern Fidelity;
Measurement;
LELE;
Metal;
Device Pattern;
CD-SEM;
38.
Monitoring Process-Induced Overlay Errors through High-Resolution Wafer Geometry Measurements
机译:
通过高分辨率晶圆几何尺寸测量监控过程引起的覆盖误差
作者:
K.T. Turner
;
P. Vukkadala
;
S. Veeraraghavan
;
J.K. Sinha
会议名称:
《Metrology, inspection, and process control for microlithography XXVIII》
|
2014年
关键词:
Overlay;
wafer geometry;
wafer shape;
residual stress;
thin films;
39.
Compensating process non-uniformity to improve wafer Overlay by RegC®
机译:
补偿工艺不均匀性以改善RegC®的晶圆覆盖
作者:
Philippe Leray
;
Shaunee Cheng
;
Avi Cohen
;
Erez Graitzer
;
Vladimir Dmitriev
;
Shiran Rehtan
;
Nadav Wertsman
会议名称:
《Metrology, inspection, and process control for microlithography XXVIII》
|
2014年
关键词:
Overlay;
Registration;
Mask;
RegC®;
Patterning;
CD uniformity;
40.
9nm node wafer defect inspection using visible light
机译:
使用可见光检查9nm节点晶圆缺陷
作者:
Renjie Zhou
;
Chris Edwards
;
Gabriel Popescu
;
Lynford L. Goddard
会议名称:
《Metrology, inspection, and process control for microlithography XXVIII》
|
2014年
关键词:
9nm node wafer;
wafer defect inspection;
dark-field imaging;
phase imaging;
image processing;
signal to noise ratio;
41.
Real-time Inspection System Utilizing Scatterometry Pupil Data
机译:
利用散射仪学生数据的实时检查系统
作者:
Jae Yeon Baek
;
Philippe Leray
;
Anne-Laure Charley
;
Costas J. Spanos
会议名称:
《Metrology, inspection, and process control for microlithography XXVIII》
|
2014年
关键词:
Scatterometry;
Advanced Process Control;
Semiconductor Manufacturing;
Semiconductor Metrology;
Critical Dimension;
Support Vector Machines;
42.
Parallel, Miniaturized Scanning Probe Microscope for Defect Inspection and Review
机译:
平行,微型扫描探针显微镜,用于缺陷检查和检查
作者:
H. Sadeghian
;
T. C. van den Dool
;
W. E. Crowcombe
;
R. W. Herfst
;
J. Winters
;
G. F. I. J. Kramer
;
N. B. Koster
会议名称:
《Metrology, inspection, and process control for microlithography XXVIII》
|
2014年
关键词:
Parallel SPM;
Miniaturized SPM;
Defect inspection;
Defect review;
Patterned wafer inspection;
Mask inspection;
43.
Computational Techniques for determining Printability of Real defects in EUV Mask pilot line
机译:
确定EUV掩模先导线中实际缺陷可印刷性的计算技术
作者:
Paul Morgan
;
Daniel Rost
;
Daniel Price
;
Ying Li
;
Daniel Peng
;
Dongxue Chen
;
Peter Hu
;
Noel Corcoran
;
Donghwan Son
;
Dean Yonenaga
;
Vikram Tolani
会议名称:
《Metrology, inspection, and process control for microlithography XXVIII》
|
2014年
关键词:
EUV defect;
defect disposition;
22nm and below;
EUV mask inspection;
Computational Technology;
defect recovery;
EUV Defect Printability Simulator (DPS);
DPS+;
SEM2Aerial (S2A);
Automated Defect Classification (ADC);
Aerial Image Analyzer (AIA);
44.
Novel In-line Metrology Methods for Fin Pitch Walking Monitoring in 14nm Node and Beyond
机译:
用于14nm节点及以上节点的鳍间距步行监测的新型在线计量方法
作者:
Robin Chao
;
Kriti Kohli
;
Yunlin Zhang
;
Anita Madan
;
G Raja Muthinti
;
Augustin J Hong
;
David Conklin
;
Judson Holt
;
Todd C Bailey
会议名称:
《Metrology, inspection, and process control for microlithography XXVIII》
|
2014年
关键词:
metrology;
OCD;
scatterometry;
HRXRD;
pitch walking;
45.
Enhanced Optical CD Metrology by Hybridization and Azimuthal Scatterometry
机译:
通过杂交和方位角散射增强光学CD计量
作者:
Shahin Zangooie
;
Jie Li
;
Karthik Boinapally
;
Peter Wilkens
;
Avraham Ver
;
Babak Khamsepour
;
Holger Schroder
;
John Piggot
;
Sanjay Yedur
;
Zhuan Liu
;
Jiangtao Hu
会议名称:
《Metrology, inspection, and process control for microlithography XXVIII》
|
2014年
关键词:
Scatterometry;
Critical Dimension;
Metrology;
Hard Disk Drive;
Complex Structures;
Hybrid Metrology;
Azimuth Angle;
Azimuthal Scatterometry;
Multi Azimuth;
46.
Visualization of Si Surface and Interface Quality by Non-Contact Optical Characterization Techniques
机译:
通过非接触光学表征技术可视化Si表面和界面质量
作者:
Woo Sik Yoo
;
Kitaek Kang
;
Toshikazu Ishigaki
;
Takeshi Ueda
会议名称:
《Metrology, inspection, and process control for microlithography XXVIII》
|
2014年
关键词:
Raman spectroscopy;
photoluminescence (PL);
Si stress;
Si surface damage;
Si interface quality;
plasma process induced damage (PPID);
virtual depth profiling;
47.
Sidewall Roughness and Line Profile Measurement of Photoresist and FinFET Features by Cross-Section STEM and TEM Image for Reference Metrology
机译:
通过截面STEM和TEM图像对光阻和FinFET功能进行侧壁粗糙度和线轮廓测量,以供参考计量
作者:
Kiyoshi Takamasu
;
Haruki Okitou
;
Satoru Takahashi
;
Osamu Inoue
;
Hiroki Kawada
;
Vimal Kamineni
;
Abhijeet Paul
;
A.F. Bello
会议名称:
《Metrology, inspection, and process control for microlithography XXVIII》
|
2014年
关键词:
Sidewall roughness;
Line profile;
Photoresist;
FinFET;
STEM;
CD-SEM;
Reference metrology;
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