157-nm lithography resist; defect; high hydrophobicity; thin film;
机译:下一代157 nm深紫外光刻工具的金刚石光电探测器
机译:下一代157 nm深紫外光刻工具的金刚石光电探测器
机译:YF_3:Nd〜3 +,Pr〜3 +,Gd〜3 +宽带隙晶体作为157 nm光刻的光学材料
机译:用于光刻法的157纳米颗粒:对氟碳的深紫色光解的机械调查
机译:在康宁®Willow®玻璃上通过投影光刻技术制造的卷对卷柔性电子产品的工艺开发和分析
机译:半导体制造工厂的光刻工艺中挥发性有机化合物的暴露和副产物挥发性有机化合物的暴露可能性
机译:使用化学放大的157-nm抗蚀剂的硬掩模工艺。