contact hole; MEEF; DOF; KrF exposure; half-tone phase shift mask;
机译:掩模传输共振引起的负掩模误差增强因子的观察
机译:掩模线性度和掩模误差增强因子
机译:ArF光刻胶参数优化,可降低掩模误差
机译:通过最佳曝光剂量自调节掩模减少掩模误差增强因子(MEEF)
机译:减少焦虑症的剂量,增加剂量,长时间接触和正念的相对功效。
机译:舒芬太尼的最佳推注剂量可满足中国小儿患者的喉罩气道(LMA)插入条件
机译:照明光谱宽度影响0.6Na KrF成像中的掩模误差增强因子和等密度偏差