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Advantages of the varian VIISTa single wafer high current ion implanter for advanced device fabrication

机译：瓦里安VIISTa单晶片大电流离子注入机在先进设备制造方面的优势

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来源
《Ion Implantation Technology, 2000. Conference on》|2000年|P.431-434|共4页
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作者
Munk; G.; Callahan; T.;
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正文语种
中图分类无线电电子学、电信技术;
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