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Monte carlo simulation and modeling of ion implantation induced contamination profiles

机译：蒙特卡洛模拟和离子注入引起的污染概况建模

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《Ion Implantation Technology, 2000. Conference on》|2000年|P.691-694|共4页
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作者
Haublein; V.; Weib; R.;
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正文语种
中图分类无线电电子学、电信技术;
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