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Junction profiles of sub keV ion implantation for deep sub-quarter micron devices

机译：亚keV亚微米深器件的keV离子注入结形曲线

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《Ion Implantation Technology, 2000. Conference on》|2000年|P.87-90|共4页
会议地点
作者
Al-Bayati; A.; Tandon; S.;
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正文语种
中图分类无线电电子学、电信技术;
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