机译:使用具有后曝光烘烤功能的无机电子束抗蚀剂制造无缝辊模具
机译:通过使用无机电子束抗蚀剂和曝光后烘烤来制造纳米点阵模具
机译:通过区域控制的曝光后烘烤来改善负性化学放大抗蚀剂的掩模制造的全局临界尺寸均匀性
机译:通过广泛的区域曝光实验,曝光烘焙表征和参数提取正深紫外线抗蚀剂
机译:深紫外光致抗蚀剂技术中的问题:用于248和213 nm光刻的本体和表面成像抗蚀剂的表征和建模。
机译:通过使用非化学放大的抗蚀剂和曝光后烘烤来制造具有改善的线边缘粗糙度的高分辨率掩模
机译:曝光后预防人类免疫缺陷病毒感染性发生或注射药物使用暴露:鉴定和表征曝光源
机译:不饱和聚酯体系固化的几点实验。第二部分。固化反应高级阶段体积电阻率,巴氏硬度和丙酮萃取的测定