microlithography; nanolithography; double patterning; quantum state control; interferometric lithography;
机译:间距为90 nm的25 nm接触孔的图案化:线/空间双曝光浸没光刻技术和等离子辅助收缩技术的结合
机译:使用EUV干涉光刻的亚10纳米图案
机译:使用Littrow棱镜作为Lloyd干涉仪,通过浸没干涉光刻进行亚50纳米图案化
机译:量子态控制干扰光刻和修剪双图案化32-16 nm光刻
机译:通过干扰光刻纳米制造:从图案化到图案转移
机译:通过宽光束扫描曝光和自参考对准实现干涉光刻的无限记录长度
机译:用于双图案光刻的时序收益率颜色重新分配和详细的位置扰动