Stevens Institute of Technology;
Holographic Lithography; Nanofabrication; Pattern Transfer; Photoresist; Stencil;
机译:用于纳米级特征图案的干涉光刻:激光干涉,van逝波干涉和表面等离子体激元干涉之间的比较分析
机译:纳米压印光刻技术在氧化硅上构图的自组装单分子膜及其在纳米加工中的应用
机译:相干衍射光刻:通过基于掩模的干涉光刻的周期性图案
机译:深紫外干涉光刻技术与掩膜接触光刻技术相结合的像素线栅图案
机译:通过新型纳米加工技术实现的分层多位簇和图案化介质-高分辨率电子束光刻和嵌段聚合物自组装。
机译:通过软紫外-纳米压印光刻技术对图案化的Al薄膜进行退火处理大规模制造纳米图案化的蓝宝石衬底
机译:近场光刻中线边缘粗糙度的定量分析与建模:纳米制备中的高图案质量