Overlay; CD; Post-apply bake; Post-exposure bake; Resist; Residue;
机译:耐工艺性单光刻/注入120区结终止扩展
机译:加热板辅助烘烤/冷却系统,用于光刻中的光刻胶处理
机译:通过接触光刻法形成厚的高纵横比电阻掩模
机译:使用120°C后施加烘烤的厚抗蚀剂光刻工艺的改进
机译:光刻中抗蚀剂工艺的建模和校准。
机译:生物图案:精确的蛋白质光刻(P3):使用丝素蛋白轻链作为抗性的高性能生物图案(Adv。Sci。9/2017)
机译:光刻中烘烤过程中的晶圆翘曲检测
机译:工艺容忍单光刻/植入120区结终端扩展。