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Vertical Slit Field Effect Transistor in ultra-low power applications

机译:超低功耗应用中的垂直狭窄场效应晶体管

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摘要

Vertical Slit Field Effect Transistors (VeSFETs) are novel twin-gate and junction-less devices with nearly ideal sub-threshold swing and manufactured using SOI infrastructure. In this paper, we analyze VeSFETs as potential components of ultra-low power circuits. We compare circuits built with VeSFETs, FinFETs, and bulk-MOSFETs, all in 65nm technology node. Our experiments demonstrate that VeSFET has the smallest intrinsic capacitance and the lowest minimum energy among the studied devices. The Tied-Gate (TG) VeSFET-based circuit operating at the minimum energy point achieves a lower energy and a higher frequency than its Independent-Gate (IG) VeSFET-based counterpart. IG VeSFET achieves lower energy for circuits working at extremely low and relatively wide frequency range.
机译:垂直狭缝场效应晶体管(VESFET)是具有近乎理想的子阈值摆动和使用SOI基础设施制造的新型双栅极和结少的设备。 在本文中,我们将VESFET分析为超低功率电路的潜在部件。 我们在65nm技术节点中比较使用VESFET,FinFet和Bulk-MOSFET建立的电路。 我们的实验表明,VESFET具有最小的内在电容和所研究的装置中最低的最低能量。 在最小能量点操作的基于栅极(TG)基于VESFET的电路实现了比其独立的基于门(IG)基于VESFET的对应物的较低能量和更高的频率。 IG VESFET在极低且相对宽的频率范围内工作的电路实现较低的能量。

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