Critical Dimension (CD); DOF; RET; SMO; Source optimization;
机译:基于梯度的光刻光刻联合源偏振掩模优化
机译:光刻中基于梯度的源和掩模优化
机译:基于梯度的极紫外光刻光刻源掩模优化
机译:在光刻中使用基于梯度的方法进行高性能光源优化
机译:计算光学成像系统:传感策略,优化方法和性能范围。
机译:高速扫描源光学相干断层扫描的实时和高性能校准方法
机译:利用单一计算光刻框架优化从设计规则,源和掩模到全芯片:基于水平集方法的逆光刻技术(ILT)