pulsed laser deposition; erbium-doped silicon thin film; microstructural property;
机译:液态介质中脉冲激光烧蚀制备的掺Er Y2O3,Bi2O3和Sb2O3纳米粒子的上转换特性
机译:脉冲激光沉积制备(K,Ba)(Ni,Nb)O3-δ薄膜的微观结构和光学性质的研究
机译:在T≤700℃下通过脉冲激光沉积制备的NiO-和Ni-YSZ复合薄膜的物理和微观结构性质
机译:环境气体对脉冲激光烧蚀制备的ER掺杂纳米晶体Si膜微观结构性能的影响
机译:脉冲激光烧蚀沉积二氧化锡薄膜的电学性能和微观结构。
机译:在真空和环境氩气中通过脉冲激光沉积制备的TiNi薄膜的组成和晶体性质
机译:脉冲激光沉积在环境Ar气中脉冲激光沉积薄膜的组成和结晶研究
机译:环境气体压力对脉冲激光烧蚀羽流动力学和ZnTe薄膜生长的影响