alternating PSM; photomask fabrication; dry etch; wet etch; undercut; dual trench; single trench;
机译:使用现有光掩模制造能力制造用于EUV光刻的自对准交替相移光掩模的简单方法
机译:使用现有的照片掩模制造能力制造用于EUV照片光刻的自对准交替相移照片掩模的简单方法
机译:使用感应耦合等离子体(ICP)的极紫外蚀刻(EUVL)的交替相移掩模(PSM)结构的高度选择性干法蚀刻
机译:KRF光刻各种交替相移掩模工艺的评价
机译:用于相移掩模设计的广义逆光刻方法。
机译:使用电子束光刻写入的相位掩模通过近场全息术制造的软X射线变化线间隔光栅
机译:具有降低的像差灵敏度的交替相移掩模:光刻考虑因素
机译:使用光学光刻和相移掩模制造的红外频率选择表面