IOn source deposition; Plasma plymerization; Hydrophobic; Fluoropolymers;
机译:阴极电弧等离子体沉积制备Cr掺杂TiO2薄膜的表征
机译:液源雾化化学沉积(LSMCD)技术制备的掺铝尖晶石LiMn {sub} 2O {sub} 4薄膜阴极的表征
机译:通过阴极电弧和RF等离子体沉积和注入制备的单层和多层碳薄膜中的应力和分层的控制
机译:使用冷阴极离子源和等离子体沉积制备的疏水薄膜的表征
机译:通过改进的微波等离子体辅助化学气相沉积金刚石工艺制造的薄膜冷阴极材料的生长,表征和电子场发射测量。
机译:脉冲激光沉积制备富锂薄膜阴极
机译:新型空心阴极沉积技术制备a-siGe:H薄膜的光学和电子特性