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机译:液源雾化化学沉积(LSMCD)技术制备的掺铝尖晶石LiMn {sub} 2O {sub} 4薄膜阴极的表征
Liquid Source Misted Chemical Deposition; Lithium microbattery; Al-doped LiMn{sub}2O{sub}4; Cathode; Rapid thermal annealing;
机译:液源雾化化学沉积(LSMCD)技术制备的掺铝尖晶石LiMn {sub} 2O {sub} 4薄膜阴极的表征
机译:液体源雾化化学沉积法制备(Bi_(3.5)La_(0.5))Ti_3O_(12)薄膜的电性能
机译:液源薄雾化学沉积法制备Bi_(3.25)Ce_(0.75)Ti_3O_(12)薄膜的铁电性能
机译:薄介电膜的液体源雾化化学沉积(LSMCD)
机译:通过液源雾化化学沉积(LSMCD)方法沉积的高k材料的研究用于高级栅极电介质应用。
机译:增强型尖晶石型LiMn2O4薄膜阴极中晶体取向控制下的锂迁移
机译:尖晶石型LiMn 2O 4薄膜的制备及性能的EQCM技术研究