机译:基于缩酮保护的PEK和光致产酸剂的化学放大负型光敏聚苯醚酮(PEK)抗蚀剂
机译:基于缩酮保护的PEK和光致产酸剂的化学放大负型光敏聚苯醚酮(PEK)抗蚀剂
机译:极紫外和电子束光刻中基于聚苯乙烯丙烯酸酯的化学放大抗蚀剂的自由基阳离子动力学
机译:基于含有副链中的丙烯酸酯聚合物的丙烯酸酯聚合物的化学扩增抗性
机译:基于断链机理的193 nm光刻技术探索非化学放大抗蚀剂。
机译:不同化学环境中含两个磷基团的新型丙烯酸酯基阻燃剂的合成及其对聚乳酸易燃性的影响
机译:基于脂环族丙烯酸酯聚合物的化学扩增的负性抗蚀剂,用于193-nm光刻。
机译:抗蚀剂材料设计:碱催化化学扩增。