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【2h】

Chemically Amplified Negative Resists Based on Alicyclic Acrylate Polymers for 193-nm Lithography.

机译：基于脂环族丙烯酸酯聚合物的化学扩增的负性抗蚀剂，用于193-nm光刻。

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Shigeyuki Iwasa; Katsumi Maeda; Etsuo Hasegawa;
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年度 1999
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