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Current gain of SiGe HBTs under high base doping concentrations

机译:高基极掺杂浓度下SiGe HBT的电流增益

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摘要

A new analytical expression for current gain including the neutral base recombination is developed for SiGe HBTs. With the constant Ge content constraint, the optimal Ge profile for the maximum current gain is found to be dependent on both base doping concentration and the total Ge content.
机译:针对SiGe HBT开发了一种新的电流增益分析表达式,包括中性碱基重组。在恒定的Ge含量约束下,发现最大电流增益的最佳Ge轮廓取决于基本掺杂浓度和总Ge含量。

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