silicon; elemental semiconductors; MOSFET; nanolithography; electron beam lithography; etching; Fin-type double-gate MOSFET; orientation-dependent etching; electron beam lithography; nanoscale alignment precision; FXMOS fabrication; FXMOS device perf;
机译:电子束光刻和反应离子刻蚀在硅上制备菲涅耳环微阵列
机译:通过电子束光刻和深反应离子刻蚀制造用于硬X射线聚焦的硅纳米管透镜
机译:电子束光刻法制氢硅倍半氧烷作为O_2干刻蚀掩模制备玻璃碳铸模
机译:通过取决于依赖的蚀刻和电子束光刻制造Fin型双栅MOSFET(FXMOS)结构
机译:增强用于纳米结构制造的电子束光刻分辨率的方法。
机译:电子束和光学光刻技术在医药领域的聚乙二醇水凝胶结构的制备
机译:电子束光刻制造SU-8聚合物结构用于细胞研究
机译:聚合物表面的改性及亚微米级功能化结构的深紫外和电子束光刻制备