机译:避免阳极键合的玻璃-硅结构在深反应离子刻蚀中避免硅背面损伤的方法
机译:使用阳极键合的硅片作为蚀刻掩模对硼硅玻璃进行深度反应离子蚀刻
机译:由于依赖于纵横比的传输和微负载效应,在硅的深反应离子刻蚀中可实现的最大纵横比
机译:一种蒸发阳极粘结玻璃 - 硅结构深反应离子蚀刻的微载效应的方法
机译:焦炭和碳阳极中金属杂质(V,Ni,Fe)的检测方法及其对阳极反应性的影响=焦炭和碳阳极中金属杂质(V,Ni,Fe)的检测方法及其对阳极的影响阳极反应性
机译:结合隔离技术和深反应离子刻蚀形成硅纳米结构
机译:用于深度反应离子蚀刻高纵横比的kinoform硅x射线透镜的牺牲结构
机译:采用时间复用蚀刻 - 钝化工艺的高纵横比siC微结构深反应离子刻蚀(DRIE)