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机译:氢等离子体扩散处理等离子体渗氮层
Hruby; V.; Kadlec; J.;
机译:使用NH3等离子体氮化作为Se扩散阻挡层在柱状结构Mo膜中形成Mo2N皮层
机译:低温低压氢等离子体的应用:人工腐蚀层的处理
机译:通过等离子体氮化制备的层的氢等离子体扩散处理
机译:化学气相沉积和等离子体加氢制备非晶硅的光电性能。
机译:常压等离子体氧化氮化制备的Si上SiOxNy层的界面特性
机译:低温低压氢等离子体的应用:人工制备的腐蚀层的处理
机译:用于CMOS图像传感器的图像传输晶体管,具有通过耦合等离子体氮化工艺在栅极绝缘层上形成的薄氮化物层,该氮化物层用作势垒并阻止掺杂剂从栅极层扩散
机译:钢铁的等离子渗氮方法及钢铁的等离子渗氮处理
机译:高密度等离子体氮化作为扩散阻挡层,降低栅极电介质的界面缺陷密度
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