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曾涛; 胡跃辉; 陈光华;
景德镇陶瓷学院;
北京工业大学材料学院;
LBL生长技术; 微晶硅薄膜; 光电导衰退; 模拟光照;
机译:交替沉积硅和氢等离子体处理制备的非晶态和微晶态硅薄膜的生长的实时光谱分析
机译:高频氢等离子体对生长表面的处理:从p型非晶硅到微晶硅过渡的研究
机译:氢等离子体处理超薄非晶硅层对微晶硅膜形核的影响
机译:硼掺杂氢化纳米晶硅薄膜通过层逐层技术制备及其在N-I-P柔性非晶硅薄膜太阳能电池中的应用
机译:通过微波等离子体沉积技术的薄膜硅:非晶硅/晶体硅太阳能电池中的生长和器件以及界面效应。
机译:通过等离子体增强原子层沉积制备的硅氧氮薄膜的微结构化学光学和电学性质的测量
机译:离子镀技术制备氢化非晶硅薄膜和薄膜太阳能电池的制备与表征。最终报告,1979年1月1日至1980年5月31日
机译:利用等离子体沉积技术连续沉积纳米晶硅薄膜和多层绝缘层,非易失性存储器件及其形成方法的纳米晶硅层
机译:用于薄膜沉积的等离子体处理装置以及使用该方法的微晶硅层沉积方法
机译:用于膜沉积的等离子体处理设备以及使用该等离子体处理设备的微晶硅层的沉积方法
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