机译:PECVD SiOxNy介电层结构性能与Si / SiOxNy / Al电容器界面电性能的相关性
机译:等离子增强化学气相沉积SiOxNy / n-GaAs金属-绝缘体-半导体系统的界面特性
机译:常压氮等离子体形成的纯Ge_3N_4介电层的结构分析和电性能
机译:大气压超高频等离子体制备的高速沉积微晶硅膜的表征
机译:在等离子体增强原子层沉积制备的金属氧化物/氧化物界面处的光诱导电荷转移。
机译:通过等离子体增强原子层沉积制备的硅氧氮薄膜的微结构化学光学和电学性质的测量
机译:常压等离子体氧化氮化制备的Si上SiOxNy层的界面特性
机译:立方碳化硅(3C siC):甲基三氯硅烷在氢气中热分解制备的单晶和多晶层的生长和性质