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机译:金刚石的热等离子体Cvd:流速与薄膜生长化学之间的关系
Girshick; S.L.; Yu; B.W.;
机译:CVD金刚石薄膜硫掺杂背后化学的原位等离子体诊断
机译:热处理的独立式CVD金刚石薄膜的生长和成核表面的结构和润湿性
机译:CH_4-Ar混合物中氢化类金刚石碳膜的PECVD:生长化学和材料特性
机译:添加氮的HFCVD金刚石薄膜生长的光发射光谱和气相化学模拟
机译:大气压非平衡等离子体化学处理金刚石薄膜的等离子体辅助化学气相沉积(PACVD)的实验研究
机译:新型金刚石薄膜合成策略:无氢的微波等离子体CVD法制备甲醇和氩气氛
机译:热等离子体CVD种植的金刚石膜的电阻率
机译:微波等离子体辅助化学气相沉积沉积的化学气相沉积在高温下的高温等离子体生长高同质金刚石薄膜沉积
机译:等离子喷射化学气相沉积法沉积金刚石或类金刚石薄膜
机译:在SHF放电等离子体中从气相沉积金刚石膜的高速方法和用于执行该方法的等离子体反应器
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