Fraunhofer Institute Applied Optics Precision Engineering, 07745 Jena, Germany;
e-beam lithography; laser lithography; micro-optics; diffractive optics;
机译:微光学和光刻模拟是掩模对准器中阴影印刷光刻的关键技术
机译:基于一步法无掩模灰度光刻的具有任意表面轮廓的微光学元件的制备
机译:基于DMD的实时无掩模光刻技术制造连续浮雕微光学元件
机译:微光学:高级掩模对准仪光刻的关键使能技术(KET)
机译:先进光刻的嵌段共聚物定向自组装的计算研究。
机译:基于一步法无掩模灰度光刻的具有任意表面轮廓的微光学元件的制备
机译:基于一步式无掩模灰度光刻技术制作具有任意表面轮廓的微光学元件
机译:美国/英国先进二氧化硅大分子微光学研究项目