提高机床精度到1纳米级或更高级的方案可用于高级芯片生产替代光刻机

摘要

提高机床精度到1纳米级或更高级的方案可用于高级芯片生产替代光刻机。将螺丝头镶嵌在一个圆盘A中心，螺母位置不变，圆盘A旋转一周，螺丝杆A就会向前伸出（此处只讲向前）1毫米，（伸出长短与螺丝扣大小成正比，此处假设为1毫米）圆盘A外周长如果是1米，那么圆盘A外周长旋转1毫米，螺丝杆A就会向前伸出1微米，圆盘外周长如果是1000米，那么圆盘A旋转1毫米，螺丝杆A就会向前伸出1纳米，（螺丝杆向前伸出或向后缩回1纳米，取决于圆盘旋转的方向）利用这个原理机床就可以实现1纳米精度雕刻。此方法可用于芯片制作替代光刻机。

说明书

技术领域提高机床精度到1纳米级或更高级的方案可用于高级芯片生产替代光刻机。

背景技术

背景技术描述段落。提高机床精度到1纳米级或更高级的方案可用于高级芯片生产替代光刻机。

发明内容

发明内容描述段落。（下面有形象图）将螺丝头镶嵌在一个圆盘A中心，螺母位置不变，圆盘A旋转一周，螺丝杆A就会向前伸出（此处只讲向前）1毫米，（伸出长短与螺丝扣大小成正比，此处假设为1毫米）圆盘A外周长如果是1米，那么圆盘A外周长旋转1毫米，螺丝杆A就会向前伸出1微米，圆盘外周长如果是1000米，那么圆盘A旋转1毫米，螺丝杆A就会向前伸出1纳米，（螺丝杆向前伸出或向后缩回1纳米，取决于圆盘旋转的方向）利用这个原理机床就可以实现1纳米精度雕刻。螺丝杆A伸出尖端安装一个尖端为1纳米的刻刀，就可以生产1纳米级芯片了，此方法可用于芯片制作替代光刻机。如果希望圆盘小一点便于生产，可用多个周长小的组合，也可实现，如圆盘A周长为1米的外周有螺丝扣，用另一个外周长为1米的圆盘B上的螺丝杆B推动旋转圆盘A，圆盘B旋转1毫米，螺杆B伸出1微米，推动圆盘A旋转1微米，圆盘A的螺丝杆A就伸出1纳米，（和1000米周长单个圆盘效果相同）。以此类推螺丝杆A伸出1纳米不变的情况下，圆盘越多圆盘就可以越小，反之圆盘不变圆盘越多螺丝杆A伸出就越小。在1纳米刻刀的推杆上加装三维坐标轴（也用同原理推动的1纳米级精度的），尖端为1纳米的刻刀就可以实现上下，左右，前后自由刻画，刻画精度就是1纳米级的。

附图说明

图1是本发明提高机床精度到1纳米级或更高级的方案的结构示意图。