CREST, Japan Sci. Technol. Agency (JST), Japan;
X-ray diffraction; annealing; elemental semiconductors; ion implantation; molecular clusters; organic compounds; silicon; Csub7/subHsub7/sub; Si:Jk; cluster ion implantation; flash lamp annealing; in-plane diffraction technique; multiple collisions; semiconductor manufacturing; strain engineering; stress measurement; tropylium ion; ultra shallow junction formation;
机译:X射线衍射技术测量低温等离子体表面合金层的残余应力
机译:在超晶格中观察卫星结构X射线衍射所需的最少层对数。超晶格交替层中弹性应力的测量和计算
机译:使用X射线衍射技术测量IN718疲劳试样的残余应力
机译:具有面内衍射技术的碳簇植入层的应力测量
机译:侧面植入的压阻剪切应力传感器,用于湍流边界层的测量。
机译:使用带状函数模型通过中子衍射测量确定双层碳氢化合物厚度。
机译:用X射线衍射技术测量低碳钢对接焊缝中的残余应力
机译:用X射线衍射技术测定铝 - 石墨复合材料的残余应力