Center for Materials Science, Keio University 3-14-1, Hiyoshi, Kohoku-ku, Yokohama 223-8522, Japan;
ternary nitride films; cathodic arc method; micro-hardness; microstructures;
机译:第二种金属含量对阴极电弧法合成三元氮化物膜组织和显微硬度的影响
机译:电弧电流对真空阴极电弧法沉积氮化碳膜性能的影响
机译:真空阴极电弧法研究不同电弧电流下氮化碳膜的研究
机译:第二金属含量对阴极弧法合成三元氮化物膜的微观结构和微硬度的影响
机译:低温合成的氢化氮化铝薄膜的光学和结构表征
机译:通过过滤阴极真空电弧合成的超薄无定形碳膜用作热辅助磁记录头的保护层
机译:通过中空阴极放电方法对金刚石碳和氮化碳膜的表征