Electrical and Electron Engineering, Tokyo city University, 1-28-1 Tamazutumi, Setagaya-ku, Tokyo 158-8557, Japan;
Electrical and Electron Engineering, Tokyo city University, 1-28-1 Tamazutumi, Setagaya-ku, Tokyo 158-8557, Japan;
Electrical and Electron Engineering, Tokyo city University, 1-28-1 Tamazutumi, Setagaya-ku, Tokyo 158-8557, Japan;
Japan Synchrotron Radiation Research Institute, 1-1 Kouto, Sayo-cho, Sayo District, Hyogo 679-5198, Japan;
Japan Synchrotron Radiation Research Institute, 1-1 Kouto, Sayo-cho, Sayo District, Hyogo 679-5198, Japan;
Electrical and Electron Engineering, Tokyo city University, 1-28-1 Tamazutumi, Setagaya-ku, Tokyo 158-8557, Japan;
机译:SiO_2 / SiC界面处的过渡层
机译:角分辨X射线光子电子能谱在界面和层生长研究中的应用在沉积在SiO_2上的Ti / Ta基膜上得到证明
机译:角分辨X射线光子电子能谱在界面和层生长研究中的应用在沉积在SiO_2上的Ti / Ta基膜上得到证明
机译:SIO_2 / SIC接口过渡层的角度解析PES研究
机译:LaNiO3 / SrTiO 3超晶格及其界面的硬和软X射线驻波光电子能谱和角分辨光电子能谱研究。
机译:过渡元件添加对Al(111)/ 6H-SiC(0001)界面的界面相互作用和电子结构的影响:第一原理研究
机译:揭示siC上三层石墨烯的电子能带结构:an 角分辨光电子发射研究
机译:二次谐波产生气液界面分子单分子膜的研究:取向相变问题