Kyma Technologies, Inc. Raleigh NC, USA 27617,Virginia Commonwealth University, Richmond VA, USA 23284;
Kyma Technologies, Inc. Raleigh NC, USA 27617;
Kyma Technologies, Inc. Raleigh NC, USA 27617;
Kyma Technologies, Inc. Raleigh NC, USA 27617;
Kyma Technologies, Inc. Raleigh NC, USA 27617;
Virginia Commonwealth University, Richmond VA, USA 23284;
Virginia Commonwealth University, Richmond VA, USA 23284;
Virginia Commonwealth University, Richmond VA, USA 23284;
Virginia Commonwealth University, Richmond VA, USA 23284;
Virginia Commonwealth University, Richmond VA, USA 23284;
Bulk GaN; GaN HFET; GaN HEMT; AlGaN; offcut; vicinal substrate; misoriented substrate, homoepitaxy;
机译:块状GaN衬底上的AlGaN / GaN HFET的热性能
机译:AlGaN / GaN异质结构在GaN散装晶片和GaN模板基板上生长的高迁移率二维电子气体
机译:氨纶块状GaN衬底上的AlGaN / GaN HEMT结构
机译:基材邻切割对AlGaN / GaN HFET结构Onbulk GaN衬底的影响
机译:用于AlGaN / GaN和InAlN / GaN二极管以及在硅(111)衬底上生长的高迁移率晶体管的CMOS兼容氧化钌肖特基接触的研究。
机译:使用低Al组成的单个AlGaN层在Si衬底上生长高质量和均匀的AlGaN / GaN异质结构
机译:通过氨热法生长在c,a,m和(20.1)平面gan本体衬底上沉积的algan / gan异质结构的非接触电反射
机译:m面alGaN / GaN和alInN / GaN异质结构的外延生长适用于常驻型GaN基板上的常关模式高功率场效应晶体管