首页> 外文会议>Future of Electron Devices, Kansai (IMFEDK), 2012 IEEE International Meeting for >Breakdown characteristics in AlGaN/GaN HEMTs with multi-field-plate structure
【24h】

Breakdown characteristics in AlGaN/GaN HEMTs with multi-field-plate structure

机译:具有多场板结构的AlGaN / GaN HEMT的击穿特性

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摘要

We have fabricated AlGaN/GaN high electron mobility transistors (HEMTs) with a multi-field-plate structure. An enhanced breakdown voltage was achieved by introducing a multi-field-plate to a conventional HEMT structure. This is the first report demonstrating enhanced breakdown characteristics by applying a bias voltage to the field-plate.
机译:我们已经制造了具有多场板结构的AlGaN / GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)。通过将多场板引入传统的HEMT结构,可以提高击穿电压。这是第一份报告,该报告通过向场板施加偏压来增强击穿特性。

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