Graduate School of Engineering, University of Fukui, 3-9-1 Bunkyo, Fukui 910-8507, Japan;
机译:通过优化栅场板结构来改善AlGaN / GaN HEMT的击穿特性
机译:击穿电压提高的AlGaN / GaN / AlGaN双异质结HEMT的特性
机译:Fe掺杂的GaN缓冲剂对Si衬底上的AlGaN / GaN HEMT中的断态击穿特性的影响
机译:具有多场平板结构的Algan / GaN Hemts中的击穿特性
机译:研究常关模式的AlGaN / GaN MOS HEMT器件,该器件利用栅极后退和p-GaN栅极结构以及带有醛生长的高k栅极绝缘体来实现高功率应用。
机译:使用AlGaN / GaN / AlGaN量子阱电子阻挡层的AlGaN / GaN HEMT中的高击穿电压
机译:使用AlGaN / GaN / AlGaN量子阱电子阻挡层的AlGaN / GaN HEMT中的高击穿电压