Institute of Optics Electronics, Chinese Academy of Science, Chengdu,610209,China Graduate School of the Chinese Academy of Science, Beijing, 100039, China;
Institute of Optics Electronics, Chinese Academy of Science, Chengdu,610209,China;
zone plate array lithography (ZPAL); amplitude photon sieve lithography (APSL); phase photon sieve lithography (PPSL); diffractive element; design and fabrication method; nano-lithographic;
机译:相光子筛的设计与应用
机译:基于矢量衍射理论的光子筛设计与优化
机译:随机区域划分法设计多波长光子筛的实验研究
机译:基于相光子筛的纳米光刻系统设计
机译:用于传感和筛分应用的过渡金属基环烷和分子材料的设计,合成和研究。
机译:激光烧蚀在聚酰亚胺衬底上的柔性二相光子筛
机译:光子筛分:基于III-V半导体纳米线森林的选择性和敏感的光子筛,由光刻 - 无光刻工艺(晚期光学材料17/2020)