一种基于双波长光子筛和双光源的光刻对准系统

摘要

本实用新型涉及光刻技术领域，具体涉及一种基于双波长光子筛和双光源的光刻对准系统，其包括依次共轴设置第二反射镜、第三分光镜、第一分光镜、第二分光镜、光子筛、掩膜和硅片；第一分光镜一侧依次共轴设有对准光源和第一准直透镜，且第一准直透镜邻近第一分光镜；第二分光镜一侧依次共轴设有曝光光源和第二准直透镜，且第二准直透镜邻近第二分光镜；第三分光镜相对的两侧分别设有第一反射镜和CCD相机。采用分区域结构设计的双波长光子筛替代传统的投影物镜，解决了为了透过波长不同的对准光源和曝光光源，物镜镜片需镀双峰增透膜而导致系统结构复杂、透射率低的问题，既保证了双光源同时成像，又具有优良的聚焦成像性能，且降低了系统复杂度。