Department of Electronic Science and Engineering, Kyoto University Yoshida-Honmachi, Sakyo-ku, Kyoto 606-8501, Japan;
机译:双空心阴极等离子体喷射系统沉积Ba_xSr_(1-x)TiO_3薄膜的空间分辨光发射光谱
机译:(Ba,Sr)TiO_3的(Ba,Sr)RuO_3导电氧化物膜的金属有机化学气相沉积
机译:低温(420℃)金属有机化学气相沉积法生长(ba,Sr)TiO_3薄膜退火工艺的优化
机译:微直接电荷光发射光谱法诊断(BA,SR)TiO_3薄膜的核心化学气相沉积
机译:通过铝的物理气相沉积和等离子体增强的三甲基硅烷化学气相沉积产生的薄膜的原位X射线光电子能谱分析。
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:用于化学气相沉积的H2 + CH4 50-Hz–13.56-MHz等离子体的光发射诊断