imec, Kapeldreef 75, B-3001 Leuven, Belgium;
imec, Kapeldreef 75, B-3001 Leuven, Belgium;
imec, Kapeldreef 75, B-3001 Leuven, Belgium;
imec, Kapeldreef 75, B-3001 Leuven, Belgium;
ASML, Kapeldreef 75, B-3001 Leuven,Belgium;
triple patterning; negative tone development; source mask optimization; design technology cooptimization;
机译:基于FinFET的SRAM的稳健设计的器件电路协同优化
机译:针对纳米技术的单事件多重效应的鲁棒SRAM单元设计
机译:多层字线驱动器,可在纳米级CMOS技术中实现可靠的SRAM设计
机译:英特尔10纳米制程中标准单元库的设计技术共同优化
机译:设计和分析稳健的可变性SRAM,以预测最佳访问时间,以实现未来纳米级CMOS的良率提高。
机译:功耗优化的变化感知双阈值SRAM单元设计技术
机译:双门硅纳米线晶体管的常规逻辑拼贴的工艺/设计共同优化