Texas Instruments, Dallas, TX 75243;
contact hole; low-k1 imaging; Arf;
机译:具有接触孔掩模和偶极子照明的双线和空间形成方法形成低k_1接触孔
机译:用于超NA接触孔打印的组合照明光源
机译:使用EUV干涉光刻研究接触孔印刷的抗蚀剂性能
机译:使用定制照明进行接触孔光刻改善非对称印刷和低裕度
机译:无墨软光刻:利用固定化酶和小分子通过催化微接触印刷对自组装单分子膜进行构图
机译:用于微接触印刷的低成本无光刻的印模制造
机译:高NA DUV印刷工具,具有0.25μm光刻应用的倾斜照明源组合。