Framework for identifying recommended rules and DFM scoring model to improve manufacturability of sub-20nm layout design

机译：用于识别推荐规则和DFM评分模型的框架，以提高20纳米以下布局设计的可制造性

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This paper addresses the framework for building critical recommended rules and a methodology for devising scoringmodels using simulation or silicon data. Recommended rules need to be applied to critical layout configurations (edge orpolygon based geometri

机译：本文介绍了用于构建关键推荐规则的框架以及使用模拟或硅数据设计评分模型的方法。建议的规则需要应用于关键的布局配置（基于边或多边形的几何

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来源
《Design for manufacturability through design-process integration VI.》|2012年|P.0U.1-0U.13|共13页
会议地点 San Jose CA(US)
作者
Piyush Pathak; Sriram Madhavan; Shobhit Malik; Lynn T. Wang; Luigi Capodieci;
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作者单位

GLOBALFOUNDRIES Inc. (United States);

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会议组织
原文格式 PDF
正文语种 eng
中图分类微电子学、集成电路（IC）;微电子学、集成电路（IC）;
关键词

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