首页> 外文会议>Design for manufacturability through design-process integration VI. >Consideration of correlativity between litho and etching shape
【24h】

Consideration of correlativity between litho and etching shape

机译:考虑光刻与蚀刻形状之间的相关性

获取原文
获取原文并翻译 | 示例

摘要

We developed an effective method for evaluating the correlation of shape of Litho and Etching pattern.The purpose of this method, makes the relations of the shape after that is the etching pattern an index inwafer same as a pattern shape on wafer made by
机译:我们开发了一种有效的方法来评估光刻和蚀刻图案的形状之间的相关性,该方法的目的是使形状之间的关系成为蚀刻图案,该蚀刻图案的折射率与通过蚀刻制成的晶片上的图案形状相同

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号