Laboratoire de Physique des Interfaces et des Couches Minces (UMRS 7647 CNRS) Ecole Polytechnique, 91128 Palaiseau, Cedex, France;
microcrystalline silicon; growth process; top gate; bottom gate; thin film transistors; stability;
机译:在低温下通过等离子体沉积的微晶硅薄膜中的杂相生长增强了化学气相沉积
机译:在高压等离子体条件下沉积的微晶硅薄膜的温度效应和应力
机译:低频脉冲衬底偏置的电感耦合等离子体化学气相沉积法沉积微晶硅薄膜的增强形核
机译:低温等离子体沉积微晶硅薄膜。稳定薄膜晶体管的新出现材料
机译:微波等离子体电子回旋共振化学气相沉积法沉积的纳米晶和非晶硅薄膜晶体管:材料分析,器件制造和表征。
机译:具有稳健的Zn-O薄膜晶体管双层异质结构设计和低温制造工艺使用真空和溶液沉积层
机译:在低温下通过等离子体沉积的无定形,多晶态和微晶硅薄膜
机译:等离子体沉积的薄氮化硅薄膜在700℃的温度下的粘附,摩擦和磨损